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第七百八十五章 光刻机的技术之墙得用水泡（第4页）

所以后来，都改成了电机驱动。

不过，当时高压的液压油都敢用，现在用一些水，有何不可？

“既然秦总确定，那我们就用这种技术，不过……这也只能解决暂时的问题，继续提升工艺，还是会遇到拦路虎。”

193纳米经过折射变成了133纳米，也就意味着，013微米的工艺能解决了，之后进入纳米时代呢？还是会遇到光刻机的光源问题的！

“接下来，一步到位，开发euv光刻机，光源使用135纳米的极紫外波长。”

徐教授一阵惊讶：“这也太快了吧？”

“一步步来，还会不断地遇到技术难题，还不如加大攻关难度，将这个捣鼓出来，以后十年二十年，都不用担心光源问题了。”

秦锋不懂具体的技术细节，但是他懂技术的发展路线，仅仅是这个，就会让己方的技术遥遥领先对手了。

在光刻机的技术探索上，有很多失败的例子，尼康的157纳米是个坑，同时，还有光刻机生产厂研究过126纳米光源，但是，这个波长更奇葩，不仅仅是熔石英会吸收，任何材料的吸收都很厉害，透镜不能用，只能用全反射的方式，结构跨度太大，分辨率也没提升多少。

所以，后世的光刻机厂商各种研究，最终认为，干脆一步到位，上135纳米的光源。

这个光源的研究，也是经过了长时间的尝试的，甚至最初还是134纳米，各种研究之后，才锁定135纳米。

“这个光源……”

徐教授仔细地思考了一番：“得在真空中，还得是反射结构。”

反正继续向下选，各种光源都是需要真空环境加反射镜的，和之前的结构完全不同，所以，一步到位！

寻找反射的条件也不容易，最终工程师们找到了反射率最高的osi布拉格反射器，一层o薄膜加上一层si薄膜，它的最高反射率在135纳米波长的位置，于是，这种光源就被确定了下来。

其他的技术路线，x光之类的，都被超越了。

不过，最初的时候，精度并不是特别高，只是比193浸润式光刻机提升了三倍而已，就算是这样，过渡到纳米时代也没问题了，之后不断研究，提升分辨率就可以了。

“具体的结构你们来选择，具体的技术难关，你们来攻克，不过，这条技术路线绝对是没问题的，你们按照这条路线发展就可以！”

秦总虽然是个外行，但是每次提出来的建议都是非常正确的，所以，徐教授没有继续犹豫，点头说道：“好，秦总，那我们就按照这个技术路线来！”

其中有多少技术难题，秦锋也不知道，这是手下们要干的！