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第七百八十五章 光刻机的技术之墙得用水泡（第3页）

这些年来，激光光源在不断进步，从436纳米的gle，到365纳米的ile，再到248纳米krf，目前使用的是193纳米的arf光源，这条路一直走得很通畅，但是，到了193纳米之后，就开始遇到问题了！

“按照技术路线，接下来就轮到157纳米的f2光源了，但是这个光源的问题很大。”

徐教授说道：“这种波长下，熔石英的吸收很大，没法用熔石英来做透射式系统，目前业界的期待是用caf2来做，但是，依旧会遇到双折射的问题……咱们卡在这里已经半年多了……”

己方原地踏步，国外在追赶，用不了多久，就会被国外追上了！

徐教授很着急！

在后世，秦锋也并不知道这个157纳米的光源为啥不能用，但是他知道，尼康赌这个系统，然后失败了，而当时无数次濒临破产的asl，把制胜的法宝押在了林本坚的浸润式光刻机上，于是成功了。

所以……这还用说吗？

“既然这种光源有问题，那就不要用了。”

“那我们用什么？”

徐教授的目光中带着焦虑。

“还用之前的193纳米。”

徐教授睁大了眼睛，不可思议地看向秦锋，秦总，这个光源不够用啊！

不过……秦总既然这么说了，肯定有他的道理，还是听一听他怎么说。

“将这个光源穿过去离子水，水的折射率是多少来着？这样一换算，应该能将波长降低到130纳米左右吧？”

徐教授深深地呼吸了一口气，一旁的倪老已经开口了：“换算过来，是133纳米，这样比157纳米的光源还要小，但是……”

徐教授的脸上带着苦笑：“秦总，咱们的光刻机里是有电路的，您要在光刻机里加水……”

这听上去，有些扯淡啊！

秦锋笑了笑，林本坚当年在硅谷介绍这种技术的时候，所有人都以为他是在扯淡，毕竟之前的光刻机都是干式的，要在里面加水？脑子进水了吧？

只有那个即将破产的asl，决定押这种技术，然后，asl就发展成为了世界第一光刻机大厂，苦心钻研157纳米光源的尼康，就彻底落后了！

“听我的，没有错，早期光刻机还是用液压驱动的，里面的液压油，不也是液体的吗？”

最开始的光刻机，还真是液压驱动，万一，万一中的万一，管道崩了，那液压油肯定会喷射的到处都是，正在生产中的所有芯片都会报废。