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909工程的负面影响,是巨亏掏空了中国用于发展集成电路的资本,被日本人坑的很惨,基本掏空了中国集成电路产业的本钱。
之后,国家投入集成电路产业的资金,开始锐减。
步入21世纪,国内芯片产业却是进入了真正意义上的寒冬。
即便是看到国内和国际市场的工艺制程差距在扩大,但是,民间资本因为看不到利润,所以很少投资。
国家资本,则是缩小产业投入规模,仅再科研单位和高校,象征性的拨点钱,消极跟进国际上半导体工艺和设计。
当然了,现在908工程还未拖到97年投产,由于,目前国内半导体产业比历史上更发达,无论是人才团队,还是设备工艺,大部分都可以在国内采购,所以,94年已经投产。
工艺水平初期是1.2微米,但是随着生产线对于技术的掌握和吃透,做到0.8微米是没问题的,甚至,半导体工艺也不是绝对的,如果团队能挖掘潜力,让工艺水平突破设备的极限,做到0.5微米,也不是不可能。
比如,后世的英特尔迟迟卡在10纳米工艺制程,长期在使用14纳米制程。
相对而言,台积电和三星,已经开始进入7纳米阶段。
并不说说,台积电和三星的设备比英特尔更先进。
其实,三家公司的设备上,是同一代产品。
只不过,三星和台积电,对于设备吃的更透,率先挖掘出了设备的潜力。
而英特尔则是因为,关键的地方出了问题,一直卡在14纳米,未能让设备发挥出更大的潜力。
而90年代的1微米工艺制程的设备,如果初期投产达不到相对精度,可以降低标准,当做1.2微米的工艺,降低精度来增加良品率。
随着时间发展,不仅仅良品率会越来越高,而且,如果生产线的技术人员进行一些改进和挖掘潜力,少则不需要更换光刻机,小范围改进就可以将工艺升级到0.8微米。
如果,整个团队都是比较牛逼,不换光刻机,用精度更落后的光刻机挖掘潜力,将工艺提升到0.5微米,也不是不可以做到。
简单说,光刻机等等设备仅仅是设备,能把生产设备的潜力挖掘到什么地步,则是要看芯片工厂的管理和技术团队的水平。
这跟绣花一样,同样的绣花针,有的人就能在布上绣出华丽精致的画卷。
不会用的门外汉,就只能用绣花针扎人。
“现在908工程怎么回事?”
林棋问道。
“投产了,但是找不到订单!”
小雷表示说道,“华晶的领导到香港来化缘,求点订单!”
“好吧,我去见一见!”
林棋并没有因为华晶工厂是908工程,就给额外的青睐。
首先,现在的908工程,别说跟国际比了,就是国内比,也是落后了两代以上。
新创芯和骊山半导体,目前主流的工艺水平,已经是0.5微米。
再经过几年挖掘潜力,不需要更换光刻机,部分的生产线,应该是可以达到0.35微米甚至0.25微米的程度。
跟两大龙头企业相比,华晶的地位很尴尬,也很鸡肋。
当然了,华晶再差,好歹是中国的半导体公司,如果是能帮到的,林棋还是愿意帮扶的。
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