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“徐工,如果我没有记错的话,在86年,上级提出来了531战略,要推广以你们742厂为基础的5微米技术,同时研发3微米,攻关1微米,到你们这里,就成了全套引进了?”
“没错,上级是提出来了,但是,我们自主研发的话,耗资太大,研制出来的设备还是落后的,所以,我们最好的办法就购买,自己造芯片生产设备,哪里有买的好。”
秦锋的脸色难看起来。
王钢也看出来了秦锋的不悦,他对秦锋很满意,这是个干大事的人,有本事,有手段,还有满腔的报国热情,秦锋要投入巨资搞芯片,他也想要帮忙,但是现在看来,似乎是起了反作用。
“没错,我们自研的设备或许是落后的,但是,我们自己能造,就能避免被外国卡脖子。
如果我们自己不造,造出来了自己不用,那我们就不会有自己的芯片生产设备,我们就只能看外国人的脸色,如果外国人对我们来个制裁或者封锁,那我们就会原地踏步,芯片领域里的摩尔定律,会让我们迅速落后。”
秦锋说道:“目前,我们国内最多引进个3微米的工艺,再看看国外,英特尔的386处理器已经用到了1微米的工艺制程!
如果我们只靠引进,永远都只能引进落后世界的工艺!”
“秦总,你说的有道理,但是,我们国内并没有成熟的芯片生产设备……”
“有。”
一直没有说话的黄老开口了:“清华大学的徐教授已经开发出来了投影式光刻机,这是第三代光刻机,在80年的时候,就已经能够达到3微米的精度,可惜,国内没有一个企业用。”
说起芯片来,就不得不提到光刻机,毕竟制造芯片的第一步,就是把线路刻到硅片上,这就需要光刻机。
东方在这个方面并不落后,早在1965年,国内就制造出来了65型接触式光刻机,到了1977年,国内的1445所又研发出来了gk3自动光刻机,但是依旧属于第一代的范畴,而美国人早在五十年代就研制出来了类似的光刻机,所以,一般都认为东方的光刻机和西方有20年的差距。
20年的时间,两个代差,怎么追?
清华大学的徐教授给出了答案:弯道超车!
在他的带领下,国内的光刻机发展越过了第二代接近式光刻机,直接就瞄准了当时最先进的第三代投影式光刻机的研发。
只用了三年的时间,到了80年,国内第一台投影式光刻机研发成功!
这个时代,asl还没有任何名声,著名的光学设备厂商珀金埃尔默从1967年就在研发这种技术,到了74年,才研发出了世界上首台投影式光刻机icralign100,而咱们在80年也就已经搞出来了,和西方的差距缩短到了六年!
当时这种光刻机就能生产3微米的芯片,可惜,没有人用!
这些年来,徐教授还在继续改进光刻机,可惜,依旧没有人用,社会上充斥着造不如买的思想,花费巨资研发的机器没有企业用,就无法转化成为利润,就无法形成良性循环。
进入九十年代,徐教授眼看自研的光刻机无人问津,最后只能转变方向,研究光盘去了,东方的芯片产业和西方的差距再次拉大。
“徐教授的产品还有待验证,我们企业是要选择成熟的设备,我们不能冒险,让国家宝贵的资金打水漂。”
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